Technologie
Hot-Filament CVD
Durch chemische Abscheidung aus der Gasphase (Chemical Vapour Deposition, CVD) erzeugen wir
Diamantschichten, die aus sehr vielen kleinen, zusammengewachsenen Diamantkristallen
bestehen. Sowohl Bauteile mit komplexen Strukturen als auch große Abmessungen sind
homogen beschichtbar. Ein 1800°C - 2500°C heißer Draht aus Wolfram, Tantal oder Rhenium
produziert Radikale in einem Gasgemisch aus Wasserstoff und Methan, die sich auf dem
etwa 600°C - 950°C heißen Substrat als kristalliner Diamant abscheiden. Durch gezielte
Beeinflussung der Wachstumsparameter können verschiedene Diamantmorphologien
und Wachstumsraten erreicht werden. Durchschnittliche Wachstumsraten bewegen sich
im Bereich von 0,1 bis 1 Mikrometer pro Stunde.
